EFEITO DE DIFERENTES PROTOCOLOS DE LIMPEZA PÓSCONDICIONAMENTO NA RESISTÊNCIA DE UNIÃO POR MICROCISALHAMENTO À DIFERENTES CERÂMICAS ODONTOLÓGICAS

Autores/as

  • Lei Jinhe Universidade de Guarulhos
  • André Figueiredo Reis

Resumen

O objetivo deste estudo será avaliar o efeito de diferentes protocolos de limpeza pós-condicionamento (PL) na resistência de união ao microcisalhamento (RU) de duas cerâmicas odontológicas e caracterizar a morfologia da superfície após PL por meio de microscopia eletrônica de varredura (MEV). Quinze discos de cerâmica reforçada por dissilicato de lítio (IPS e.max Press, Ivoclar Vivadent) e 15 blocos de cerâmica de silicato de lítio reforçada por óxido de Zircônio (Celtra DUO, Dentsply Sirona) serão polidos,, condicionados com ácido fluorídrico 10% por 20 s e distribuídos aleatoriamente em 4 grupos de acordo com o PL: controle (spray ar/ água); H3PO4 (aplicação ativa de ácido fosfórico 37%); US (cuba ultrassônica com álcool) e AL (aplicação ativa de álcool). Os procedimentos restauradores serão realizados utilizando o adesivo XP Bond seguido por uma resina composta de baixa viscosidade. Quatro cilindros de resina serão confeccionados em cada disco de cerâmica (n = 5). O teste de RU será realizado e o padrão de fratura avaliado. Os valores de RU serão submetidos a ANOVA 1 fator e teste de Tukey (α = 5%). A caracterização da superfície será realizada por MEV. Resultados esperados: Espera-se que os diferentes protocolos de limpeza produzam diferentes valores de resistência de união às cerâmicas estudadas

Biografía del autor/a

Lei Jinhe, Universidade de Guarulhos

Odontologia

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Publicado

2018-08-21

Cómo citar

Jinhe, L., & Figueiredo Reis, A. (2018). EFEITO DE DIFERENTES PROTOCOLOS DE LIMPEZA PÓSCONDICIONAMENTO NA RESISTÊNCIA DE UNIÃO POR MICROCISALHAMENTO À DIFERENTES CERÂMICAS ODONTOLÓGICAS. Revista Saúde - UNG-Ser, 11(2 ESP), 25. Recuperado a partir de https://revistas.ung.br/index.php/saude/article/view/3206

Número

Vol. 11 Núm. 2 ESP (2017)

Sección

RESUMOS JORNADA DE INICIAÇÃO CIENTÍFICA CNPq E UNG

Licencia

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